設(shè)備配置 2C2D、4C、4D
襯底材質(zhì) Si、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
適用工藝 G-line、i-line、PI
應(yīng)用領(lǐng)域 MEMS、功率器件、射頻集成、光通訊、LED、科研等
設(shè)備尺寸 1500*1450*2200mm(W*D*H)
技術(shù)特征:
· 設(shè)備故障、生產(chǎn)工藝參數(shù)等記錄等可長(zhǎng)期保存?zhèn)洳椋?/font>
· 光刻膠采用精密計(jì)量泵供應(yīng),精度高,供液穩(wěn)定,出膠量設(shè)定方便;
· 可做兩種尺寸完全兼容,不需要更換零件;
· 可選配光刻膠顯影液溫控,HMDS等單元部件;